2015年1月6日清晨,挂牌仪式的喧嚣尚未完全散去,“伏羲实验室”的研发车间已亮起了灯光。林渊穿着防静电工作服,正在光刻机研发区查看设备调试数据。陈研究员拿着刚打印的参数报表快步走来:“林总,昨晚通宵优化的物镜系统,像差控制精度又提升了0.02弧秒,现在完全满足14纳米工艺的预研要求。”林渊接过报表,指尖划过“国产化率99.1%”的字样,嘴角露出一丝笑意——这是实验室成立后交出的第一份答卷。
实验室的首次全员大会在上午9点召开。500余名研发人员挤满了报告厅,其中既有中科院、清华大学的资深院士,也有刚毕业的博士研究生,还有从华维、中微等企业抽调的工程技术骨干。林渊站在台上,身后的大屏幕显示着“三大战役、九大节点”的研发作战图:“从今天起,我们要打三场硬仗——28纳米设备量产攻坚战、14纳米技术突破战、EUV基础研究持久战。每个战役都划分了明确的节点目标,所有团队的进度都会实时公示在‘攻坚看板’上,奖优罚劣,绝不含糊。”
作战图的核心位置,标注着“2015年4月30日”这个关键节点——28纳米DUV光刻机必须完成量产级调试,交付晶圆厂进行试生产。负责这个项目的陈研究员站起身,用力拍了拍胸脯:“请林总和各位放心,我们光学团队联合机械、电子等六个子团队,已经制定了‘三班倒’的攻坚计划,保证按时交付!”他的话音刚落,刻蚀机研发团队的李工也站起来表态:“我们的14纳米刻蚀机原型机已经完成70%的组装,下个月就能进入调试阶段,绝不拖实验室的后腿!”
大会结束后,实验室立刻进入“战时状态”。各研发团队根据作战图分解任务,在车间内拉起了隔离带,形成了一个个独立的攻坚单元。林渊特意在每个单元门口设置了“沟通白板”,要求团队每天更新进度和遇到的问题,跨团队的难题则由实验室理事会每周召开协调会解决。“我们要打破‘闭门造车’的壁垒,让问题暴露在阳光下,用集体智慧解决问题。”林渊在巡查时对各团队负责人强调。
实验室的管理模式很快显现出优势。1月10日,光刻胶研发团队遇到了“低温存储稳定性”难题——在-5℃环境下存储超过72小时后,光刻胶的粘度会出现波动,影响涂布均匀性。李教授团队连续调试了两天仍未解决,便在沟通白板上详细标注了问题参数。当天下午,海市交通大学材料学院的王教授就带着团队找上门来:“我们在高分子材料交联剂领域有研究,或许可以通过添加微量抗冻剂解决这个问题。”
两个团队联合搭建实验装置,仅用36小时就测试出了最佳抗冻剂配比——添加0.05%的聚乙二醇后,光刻胶在-10℃环境下存储100小时,粘度波动仍控制在0.5%以内,完全满足量产要求。林渊得知后,立刻在实验室的公告栏设立了“协同攻坚之星”专栏,将两个团队的成果和成员名单公示表彰,并发放了100万元的协同创新奖金。“这就是‘无墙实验室’的意义所在。”林渊在表彰会上说,“未来这样的跨团队合作,我们要形成机制,让创新成果快速涌现。”
人才的“双向赋能”也在逐步落地。1月中旬,渊渟资本的15名年轻工程师被派往中科院半导体研究所,参与“深紫外激光光源”的基础研究;与此同时,中科院的8名科研人员进驻“芯谷”的量产车间,实地了解设备的产业化需求。刚从中科院学习归来的工程师小张,在光刻机光源调试中提出了一个创新方案:“我们可以借鉴研究所的‘脉冲调制技术’,将激光输出的稳定性提升15%。”经过测试,这个方案让光刻机的良率又提高了1个百分点。
国际巨头的关注也随之而来。1月20日,A**L亚太区总裁范德森通过第三方机构,向林渊转交了一份“技术合作提案”,提出以“专利交叉许可”的方式,换取伏羲实验室的“波长锁定技术”和“复合抛光工艺”。提案中还承诺,将向渊渟资本供应3台二手DUV光刻机,条件是实验室暂停EUV光刻机的基础研究。林渊看完提案后,直接扔进了垃圾桶:“他们想用过时的技术换我们的核心成果,门都没有!”
范德森的提案被拒后,国际巨头开始采取更隐蔽的打压手段。1月25日,为实验室提供精密测量仪器的瑞士某公司突然发函,称“接到总部通知,暂停所有技术服务和备件供应”。这款测量仪器是光刻机物镜系统校准的关键设备,一旦出现故障,整个调试工作都将停滞。负责设备维护的工程师小王急得团团转:“仪器的激光干涉仪已经出现了轻微漂移,再不校准,物镜的精度就要超标了。”
林渊立刻召集设备团队和高校专家开会。清华大学精密仪器系的张教授提出:“我们可以用国产的激光干涉仪进行替代,虽然精度比瑞士的差0.001微米,但可以通过算法补偿来修正。”林渊当即拍板,由张教授牵头,联合实验室的设备团队和华维AI团队,开展“国产测量仪器适配”项目。为了加快进度,林渊协调厂家紧急调运了3台国产激光干涉仪,同时投入5000万元用于算法研发。
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