穿越五九，开局签到八级钳工 第128章 播撒火种

在赵四的强力推动下，“盘古计划”下的标准化与数据库建设工作，开始缓慢但坚定地推动。

初步统一的测试规范，首批核心材料数据的成功入库共享，在几个关键协作节点上显现出效果，减少了内耗。

这让参与项目的各单位，尤其是最初抵触情绪强烈的老专家们，开始认识到这套“软体系”的潜在价值，配合度有所提升。

然而，赵四的思绪早已飞越眼前这些亟待夯实的基础，投向了更遥远的未来战场。

他脑海中那份系统提供的《国家工业体系脆弱点初步诊断报告》里，“集成电路”这个词如同一个不断闪烁的红色警报，提醒着他这是未来几十年扼住信息时代咽喉的最致命短板。

眼下差距尚未拉开，正是提前布局、埋下种子的唯一窗口期。

但现实是，“盘古计划”的主要资源和注意力正倾注在“工业母机之母”的攻关和标准体系建设上，预算和人力都绷得很紧。

直接提出大规模投入集成电路研发，不仅不现实，也极易被批评为“好高骛远”，分散本就有限的资源。

必须找到一个低调、务实且能说服人的切入点。

这天，赵四在处理完一批紧急协调文件后，习惯性地进行了每日签到，试图寻找一些灵感或资源。

“叮！签到成功！恭喜宿主获得【早期硅平面工艺入门知识包（精简实践版）】！[现金5元，全国粮票10斤]！”

一股关于硅材料清洗、氧化、光刻、扩散、引线键合等最基础工艺步骤的原理、关键参数控制要点、常见问题分析与解决方法的知识流涌入他的脑海。

这份技术蓝图与赵四记忆中超越时代的工厂流水线、自动机器人完全不同。

这是一份基于当前国内可能达到的技术条件，经过高度精简优化，更强调实操细节和工艺稳定性的“入门指南”和“避坑手册”。

这股知识的涌入，瞬间让赵四脑海中原本有些模糊的构想变得清晰和具体起来。

他立刻意识到，这就是他需要的“钥匙”！

他马上铺开稿纸，结合刚刚获得的系统知识，快速起草了一份名为《关于在“盘古计划”框架下开展微型化、高可靠性军用电子元器件预研的初步设想》的方案。

通过项目包装，巧妙地将远景布局包装成了对现有军工项目的必要补充和前瞻性技术保障。

基于发现问题、解决问题的思路，赵四在方案中重点强调了现有电子管和分立晶体管在尖端装备微型化、抗干扰和可靠性方面的瓶颈。

同时提出需要探索新的“固体电路”技术路径。

方案的核心提议是：设立一个高度保密的“微电子学小组”。

目标不是一步到位搞复杂芯片，而是聚焦两点：

一是跟踪研究国外“集成电路”技术原理与发展；

二是利用国内现有条件，探索最基础的硅平面工艺。

目标仅仅是稳定制备出性能合格的单个晶体管和二极管，重点是工艺的稳定性和可控性积累，为未来培养第一批种子人才。

带着这份新鲜出炉的方案，赵四找到了“盘古计划”领导小组的常务副组长李副部长。

“李部长，关于下一步的技术储备，我有一个初步设想，请您审阅。”

赵四将文件递上。

李副部长仔细翻阅着方案，他原以为这是一份针对“工业母机之母”项目的方案，当看到“硅平面工艺”、“稳定性控制”、“种子人才”这些提法时，他眼中闪过一丝惊讶。

这份方案十分清晰和具象，显然经过了相当深入的思考，并非一时兴起的空谈。

“思路有道理，眼光也很远。尤其是工艺稳定性的提法，很实际。”

李副部长沉吟片刻后说道，“一定要控制规模，保密第一。”

“先在北京和上海各设一个极小规模的探索点，挂靠在现有研究机构下，人员要精挑细选，政治和技术都要绝对可靠。”

“经费从计划的后备金里挤出一点，严格审计！”

作为了解整个盘古计划的人，李部长明显看出了赵四包装之下的项目。

“明白！我一定严格控制规模和节奏，确保稳妥可靠，绝不占用主体攻关资源。”赵四立刻保证道。

最关键的一步获得了支持。更可能得是李部长认可了这个包装方案。

拿到许可后，赵四立刻行动起来。

他重点寻找那些刚从大学物理、化学、无线电专业毕业不久、理论基础扎实、动手能力强、政治背景清白、对新兴技术充满热情的年轻技术员或助教。

经过严格筛选，最终确定了北京和上海两个点，每个点仅配置三名年轻骨干。

赵四花费了半个月，将系统奖励的知识，整合转化为了一本《硅平面工艺入门指南》。

先去了上海，再回到北京。

带着指南亲自与他们进行了秘密谈话，交由他们进行研究。

强调了工作的极端重要性和高度保密性，要求他们潜心钻研，打好基础。

随后，赵四以“盘古计划”特需的名义，协调调拨了极其有限的稀缺物资：

几片试验用高纯硅片、少量特种化学试剂、一台由退役显微镜改造的简易光刻装置、一台老式扩散炉。

设备简陋得可怜，却是从零到一的关键。

赵四分别在北京大学微电子实验室和上海冶金所一间僻静的小仓库里，主持了这两个“微电子学组”的启动会。

没有挂牌，没有记录，只有昏暗的灯光和几张年轻而严肃的面孔。

得益于系统赋予的详尽知识，赵四没有空谈概念，而是直接对照指南进入实质技术指导。

他用粉笔在黑板上勾勒出硅平面工艺的基本流程图。

详细讲解了清洗去离子水纯度要求、氧化炉温度均匀性控制、光刻胶涂覆厚度与转速关系、扩散源浓度与时间温度的匹配等关键工艺控制点。

包含了每个环节可能出现的典型失效模式和对策。

他将系统知识包里的精华，以“国外最新技术动态分析和个人初步实验推演”的形式，深入浅出地传授给这些年轻人。

“同志们，我们的首要目标不是性能多高，而是‘稳定’和‘重复性’。”

赵四强调，“比如，十次工艺循环，能有七次做出参数一致的二极管，就是巨大的成功。”

“要像记录药剂配方一样，精确记录每一次的工艺参数和结果，建立我们自己的基础工艺档案。”

年轻的组员们被如此具体、前沿又极具操作性的指导所吸引，眼中闪烁着兴奋与专注的光芒。

他们虽然不完全明白工作的全部战略意义，但能感受到其分量和深切期望。

启动会结束后，两个秘密的学组便悄无声息地投入了工作。

他们利用极其简陋的条件，从最基础的硅片清洗、氧化层生长开始摸索。

失败是家常便饭，硅片污染、氧化层龟裂、光刻图形模糊……问题层出不穷。

但每当他们遇到难以逾越的障碍时，赵四总能凭借特殊渠道，带来一些“最新的国外文献综述”或“个人的分析建议”，往往能一针见血地指出问题所在。

当北京组遇到氧化层不均匀时，赵四提示他们重点检查炉管气密性和气流稳定性；

当上海组光刻胶粘附力不足时，赵四建议他们尝试调整前烘温度和时间组合。

这些精准的指点，源于系统签到的支撑，每当有相关技术内容或者材料通过签到获得之后，赵四都会第一时间送到两个学组。

这极大地加快了摸索进程，避免了年轻人陷入盲目试错的泥潭。

进展缓慢，如同蚂蚁搬家，但就是在这一次次的失败、总结、调整中，最基础的工艺经验开始一点点积累。

当第一批粗糙但确实形成了pN结、并能观测到初步整流特性的硅器件在显微镜下呈现时，两个点的年轻人都激动得彻夜未眠。

没有鲜花，没有掌声，甚至无人知晓他们的存在。

但在北京和上海这两个安静的角落里，中国集成电路产业最原始、最微弱的火种，已经被赵四凭借系统提供的“罗盘”和“地图”，以极其隐蔽且务实的方式小心翼翼地点燃。

这簇由知识和远见点燃的火苗，虽微弱，却顽强地燃烧着，静待燎原之日。