2036年7月10日,京市国家会议中心的广场上,“汉鼎2.0工业控制软件暨昆仑2.0 EDA软件上线仪式”的巨幅横幅格外醒目。广场两侧陈列着十台来自不同企业的生产设备,从南京电子化工材料研究院的光刻胶反应釜,到山东天岳的碳化硅烧结炉,再到中芯国际的晶圆刻蚀机,每台设备的控制终端都标注着“搭载汉鼎2.0”的字样。林渊站在后台,看着手中的上线流程表,指尖划过“全球首次工业软件全流程适配演示”的环节,眼神中充满了期待与坚定。
上午九点,上线仪式正式开始。工信部副部长张国梁率先致辞,手中挥舞着一份数据报告:“工业软件是‘工业的大脑和神经’,长期以来,我国90%的高端工业控制软件被德国西门子、米国罗克韦尔垄断,85%的EDA软件被米国Synopsys、Cadence和Mentor Graphics掌控。今天,‘汉鼎2.0’和‘昆仑2.0’的上线,标志着我国在工业软件领域彻底打破了海外垄断,实现了从‘跟跑’到‘领跑’的跨越!”
张国梁的话音刚落,全场响起雷鸣般的掌声。当林渊、苏晴、华中科技大学李教授、华维海思研发总监王磊共同走上舞台,按下上线启动按钮时,广场两侧的生产设备同时启动,巨大的屏幕上实时显示着各项运行数据——光刻胶反应釜的温度控制精度达到±0.1℃,碳化硅烧结炉的压力波动小于0.01MPa,晶圆刻蚀机的刻蚀速率误差控制在0.5%以内。现场的中外记者纷纷举起相机,记录下这一历史性的时刻。
“接下来,我们将进行全球首次工业软件全流程适配演示。”主持人的声音通过音响传遍全场。屏幕上出现了一条虚拟的量子芯片生产线,从晶圆制造、光刻、刻蚀到封装测试,每个环节都由“昆仑2.0”EDA软件完成设计,“汉鼎2.0”工业控制软件负责生产控制。演示画面中,“昆仑2.0”通过量子算法优化芯片布局,将设计周期从传统软件的15天缩短至5天;“汉鼎2.0”则通过实时数据采集和量子预测模型,提前预警了一处光刻胶涂覆的异常波动,避免了批量报废。
“这是我们与华维海思联合完成的5纳米量子芯片设计案例。”王磊走上舞台,展示了用“昆仑2.0”设计的芯片样品,“传统EDA软件处理5纳米芯片的1000万个晶体管时,需要72小时才能完成时序仿真,而‘昆仑2.0’借助量子计算加速,仅用12小时就完成了,仿真误差从1%降至0.3%。更重要的是,我们加入了量子加密模块,设计数据在传输和存储过程中绝对安全,彻底解决了芯片设计的知识产权泄露问题。”
中芯国际的技术总监张汝京随后上台,分享了“汉鼎2.0”的实战效果:“我们的7纳米量子芯片生产线试用‘汉鼎2.0’一个月,设备故障率从原来的2.5%降至0.8%,生产效率提升了18%,单位产品能耗降低了12%。之前我们依赖西门子的SIMATIC软件,每年的服务费就要2000万元,而且遇到问题时,海外技术支持至少需要72小时才能响应;现在用‘汉鼎2.0’,不仅没有服务费,国内的技术团队2小时内就能上门解决问题。”
上线仪式的签约环节更是**迭起。海市微电子与渊渟签订协议,将“汉鼎2.0”全面应用于EUV光刻机的量产生产线;华虹半导体、长电科技等20家企业现场签订采购合同,订单总金额达5亿元;罗斯国米克朗公司、伊朗德黑兰半导体公司等海外合作伙伴也纷纷签约,要求引进“昆仑2.0”EDA软件的授权和“汉鼎2.0”的定制化服务。“我们的碳化硅生产线正需要这样的高端工业软件,龙国软件的性价比远超米国产品。”米克朗公司的代表在签约后说道。
然而,就在仪式进行到尾声时,来自米国的科技媒体《麻省理工科技评论》记者突然举手提问:“据我们了解,‘汉鼎2.0’的早期版本借鉴了西门子的部分代码,‘昆仑2.0’也使用了Synopsys的开源模块,请问这两款软件是否存在知识产权侵权问题?米国商务部已经表示,将对这两款软件展开知识产权调查。”
现场的气氛瞬间变得紧张起来。林渊从容地走到话筒前,语气平静地回应:“首先,‘汉鼎2.0’和‘昆仑2.0’的核心代码完全自主研发,我们已经申请了862项发明专利,覆盖了量子算法、实时控制、布局布线等所有核心模块。其次,我们确实使用了部分开源模块,但这些模块的使用完全符合开源协议,并且我们已经对其进行了深度优化,优化后的代码占比超过90%。”
林渊示意工作人员播放提前准备好的证据画面:“这是国家知识产权局出具的专利证书,这是开源社区的使用授权证明,这是第三方机构的代码比对报告,报告显示我们的软件与西门子、Synopsys的产品代码相似度不足3%。至于米国商务部的调查,我们表示欢迎,但我们坚信,任何基于事实的调查都不会发现所谓的侵权问题。相反,我们保留追究部分媒体散布虚假信息的权利。”
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