开局被裁，我收购了对手公司 第220章 试产成功，良率达标！

2015年11月11日凌晨三点，中芯国际14纳米晶圆厂的无尘车间内，空气里弥漫着光刻胶的淡淡气味。林渊穿着全包裹式防静电服，透过观察窗紧盯着生产线的实时监控屏幕。屏幕上，红色的“良率88%”字样格外刺眼——这是试产启动后第12小时的统计数据，距离95%的目标良率还有不小的差距。“林总，第5批次晶圆的检测报告出来了，边缘区域的良率只有79%，比中心区域低了16个百分点。”中芯国际的工艺工程师周工拿着检测报告，声音里带着难以掩饰的焦虑。

14纳米芯片的试产，采用的是“伏羲”系列芯片的设计方案，这是华维与伏羲实验室联合研发的高端芯片，专为旗舰手机和服务器设计。试产启动前，双方约定的目标良率是95%，只有达到这个标准，才能进入规模化量产阶段。从11月10日上午启动试产到现在，12个小时内已经生产了5批次共250片晶圆，良率从最初的82%缓慢提升到88%，但始终在低位徘徊。“问题集中在晶圆边缘，说明光刻机的曝光系统在大视场范围内的均匀性还需要优化。”林渊转身看向身后的陈研究员，“老陈，立刻联系实验室的光学团队，把过去12小时的曝光数据传回去，让他们连夜分析像差分布情况。”

此刻的伏羲实验室光学车间，同样是灯火通明。小张带着团队成员对着电脑屏幕上的像差数据图反复研究，屏幕上红色的边缘像差区域格外醒目。“陈老师，我们分析了5批次的曝光数据，发现晶圆边缘的像差比中心区域高0.03弧秒，这是导致边缘良率偏低的主要原因。”小张指着数据图解释，“之前的像差补偿算法是基于平面视场设计的，没有考虑到晶圆的弧形表面带来的折射误差。”陈研究员皱着眉头思考片刻：“立刻修改补偿算法，加入球面折射修正模型，同时调整物镜系统的光圈大小，把曝光能量的均匀性误差控制在2%以内。”

算法修改工作在凌晨五点完成，第一版优化后的程序通过加密网络传送到中芯国际的光刻机控制系统。当第6批次晶圆进入曝光工序时，林渊亲自守在曝光机旁，紧盯着屏幕上的能量分布曲线。“曝光能量均匀性误差1.8%，像差补偿完成！”操作员高声汇报。一个小时后，第6批次晶圆完成了全部工序，检测结果显示良率提升到91%，边缘区域的良率从79%提高到86%。“有效果！但还不够。”林渊看着检测报告，对周工说，“我们再调整一下光刻胶的涂布参数，把边缘区域的涂布厚度增加5纳米，或许能进一步提升抗刻蚀性。”

光刻胶涂布参数的调整，需要重新校准涂布机的喷头压力和移动速度。中芯国际的涂布机工程师小李带着团队，用激光测厚仪反复测试不同参数下的涂布厚度，直到凌晨七点，才确定了最佳参数——喷头压力从0.3MPa调整到0.32MPa，移动速度从0.5m/min降至0.45m/min。第7批次晶圆采用新的参数生产后，良率再次提升到93%，边缘区域良率突破90%。“再加把劲，目标95%！”林渊拍了拍小李的肩膀，递给他一瓶功能饮料——从试产启动到现在，所有人都已经连续工作了20多个小时，眼睛里布满了血丝。

然而，好景不长。上午九点，第8批次晶圆的良率突然回落至90%，检测发现晶圆表面出现了微小的颗粒缺陷，每片晶圆上平均有3-5个缺陷点，主要集中在光刻工序后。“是环境洁净度出了问题吗？”周工立刻联系车间的环境监控团队，检测数据显示无尘车间的洁净度等级是Class 1（每立方米空气中粒径≥0.5微米的颗粒数≤1个），符合14纳米工艺的要求。“那问题可能出在光刻胶的过滤系统上。”李教授的声音突然从身后传来，他不顾医生的劝阻，一大早就从家里赶到了车间。

李教授走到光刻胶涂布机旁，仔细检查了进料管道和过滤装置，发现过滤器的滤芯虽然是新更换的，但接口处的密封垫存在微小的缝隙，可能导致空气进入，产生气泡进而形成颗粒缺陷。“这种密封垫的材质是丁腈橡胶，在光刻胶的溶剂环境下会发生轻微溶胀，导致密封失效。”李教授从随身的公文包里拿出一卷聚四氟乙烯密封带，“用这个替换，聚四氟乙烯的化学稳定性更好，不会被溶剂腐蚀。”小李立刻动手更换密封垫，重新安装过滤器后，用氮气对管道进行了吹扫，确保没有空气残留。

第9批次晶圆的生产在上午十一点启动。当晶圆完成光刻工序后，显微镜下的表面光洁如新，没有发现任何颗粒缺陷。下午一点，第9批次晶圆的检测报告出来了——良率95.1%！“达标了！我们达标了！”周工激动地挥舞着检测报告，车间里的工人们爆发出雷鸣般的欢呼声，不少人互相拥抱，眼泪忍不住流了下来。林渊拿出手机，拨通了华维余承东的电话：“余总，好消息，14纳米芯片试产良率达到95.1%，符合量产标准！”电话那头传来余承东兴奋的声音：“太好了！林总，我马上带人过去，我们要现场见证这个历史性的时刻！”

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