开局被裁，我收购了对手公司 第133章 法庭上的技术交锋

6月的华盛顿骄阳似火，米国联邦巡回上诉法院的大理石穹顶在阳光下泛着冷峻的光泽。法院大门外，数十家全球媒体的记者架起“长枪短炮”，镜头对准陆续走进法院的人群——深蓝科技的林渊、律师团首席威尔逊，以及三星电子的法务总监金泰亨，每一个身影出现都引发一阵快门声。这场由龙国科技企业联盟发起的跨国专利诉讼，早已超越案件本身，成为全球科技界关注的“规则之战”。

法庭内部庄严肃穆，九位身着黑色法袍的法官端坐审判席，中间的主审法官是曾审理过微软与谷歌专利战的玛莎·梅耶斯，以逻辑严谨、裁决公正着称。原被告双方的席位分列两侧，深蓝科技一方坐着由威尔逊、陈铭、安娜·舒尔茨组成的核心律师团，苏晴作为技术证人坐在旁听席第一排，面前摆放着厚厚的技术资料；三星一方则集结了八名律师，身后还坐着三星电子的首席技术官崔志成，显然是准备在技术层面全力反击。

庭审正式开始后，威尔逊率先起身陈述。他没有直接宣读起诉状，而是调出了一段提前准备好的技术对比短片：“法官阁下，各位陪审员，本案的核心争议焦点是三星电子非法使用A**L授权的光刻技术。大家可以看到，短片左侧是A**L授权给三星的技术参数，明确标注‘仅限研发使用’；右侧是三星3nm芯片的实际生产数据，两者在光刻精度、蚀刻深度等17项核心指标上完全一致——这不是巧合，而是蓄意侵权。”

短片播放完毕，威尔逊将A**L与三星的授权协议副本投影在法庭大屏幕上，手指指向“使用范围”条款：“2023年3月15日，三星与A**L签署授权协议，其中第4.2条明确规定，该光刻技术仅可用于实验室研发，不得用于商业量产。但我们提交的证据显示，从2023年10月起，三星就已将该技术应用于西安、釜山两大生产基地，累计生产侵权芯片达120万片，非法获利超过30亿美元。”

三星法务总监金泰亨立刻起身反驳，他拿出一份由韩国知识产权局出具的“技术认定报告”：“法官阁下，这份报告证明，三星3nm芯片使用的光刻技术是我们自主研发的，与A**L授权技术存在本质区别。两者的光源波长不同——A**L技术使用13.5纳米极紫外光，而我们使用的是10纳米深紫外光，这是完全不同的技术路径。”他顿了顿，语气带着一丝不屑，“原告方所谓的‘参数一致’，不过是不同技术路径达到相似效果的偶然现象。”

金泰亨的辩解让旁听席出现一阵骚动，不少记者立刻低头记录。梅耶斯法官敲了敲法槌，示意双方保持秩序，随后看向威尔逊：“原告方是否有证据回应被告的质疑？”威尔逊微微一笑，抬手示意陈铭提交证据：“法官阁下，我们早已预判到对方会以此为借口。这是我们委托麻省理工学院半导体实验室做的技术鉴定报告，其中明确指出，三星所谓的‘自主研发技术’，其实是在A**L技术基础上进行的微小修改，核心算法和光刻模板完全一致。”

鉴定报告的核心页面被放大投影，上面有五位国际半导体专家的签名。陈铭起身补充道：“我们还调取了三星2023年的设备采购记录，发现他们从A**L采购了12台极紫外光刻机，却在生产报表中谎称这些设备‘用于研发测试’。但海关记录显示，这些光刻机从未进入三星的研发实验室，而是直接运到了量产车间——这足以证明三星的谎言。”

三星一方显然早有准备，崔志成作为技术证人起身作证。他拿着一张光刻技术原理示意图，详细讲解两种技术的差异：“极紫外光和深紫外光的光刻原理完全不同，就像用不同的画笔作画，虽然最终画面相似，但创作过程截然不同。麻省理工学院的报告存在明显漏洞，他们没有考虑到不同光源下的光学补偿技术——这是半导体光刻领域的基本常识。”

崔志成的证词专业性极强，法庭内的不少人都露出了困惑的表情。梅耶斯法官皱起眉头，要求双方提供“更通俗易懂的解释”。这时，苏晴作为原告方技术证人被传唤出庭，她没有携带复杂的示意图，而是拿出了两个封装好的芯片样本：“法官阁下，各位陪审员，我用一个简单的实验就能证明两者的技术关联性。”

在法庭工作人员的协助下，苏晴连接好检测设备，将两个芯片分别接入测试系统。屏幕上立刻显示出两者的电路热分布图谱：“大家看，这是三星3nm芯片的热分布（左侧），这是使用A**L授权技术研发的芯片热分布（右侧）。两者在核心区域的热分布曲线完全重合，这是自主研发技术不可能出现的现象——因为不同的技术路径会导致电路功耗分布不同，热分布必然存在差异。”

苏晴顿了顿，操作设备调出另一组数据：“更关键的是，我们在三星芯片中发现了A**L技术的‘数字水印’——A**L在授权技术中嵌入了一段隐性代码，用于追踪技术使用情况。这段代码在三星的量产芯片中清晰可见，就像在商品上刻下的专属印章，这是最直接的侵权证据。”她将代码截图放大，“这段代码的编译时间是2022年8月，早于三星所谓‘自主研发技术’的公开时间，足以证明三星的技术来源。”

本小章还未完，请点击下一页继续阅读后面精彩内容！