再制裁，毒枭全变机枭了 第178章 高精度我要，低成本我也要

听到江晟问自己想选哪条路线，臧教授有些苦恼：

“既然决定换路线，那作为阿斯麦技术延续的高数值孔径EUV，首先排除。

还有X射线光刻，因为掩膜材料容易被损伤，加上高功率、稳定的X射线光源体积太大，大到有足球场大，也可以去掉。

原子层光刻因为技术难度太大，十年都不一定能研发出来，只能暂时搁置。

剩余的两条路线，EBL电子束光刻和NIL纳米压印光刻都不错，一时半会我也难以决定。”

“电子束和纳米压印吗？”

江晟想了想，状似很随意地建议道，“那就选纳米压印吧！”

“为什么？”

“我刚才好像听你说，纳米压印设备的成本，只有EUV的1/5甚至1/10，而且制程步骤简单？”

“是的。”

臧教授点点头，“如果能解决缺陷率和模板寿命问题，这个路线是成本最低的。”

“那不就结了，反正每一条路线，都有难关需要攻克，那我们为什么不选择一条成本最低的？只要将问题解决，那光是成本优势，就能让我们立于不败之地！”

所谓天下武功，唯快不破，在任何行业，低成本优势，都是绝对的大杀器。

东大的商品，之所以能风靡全球，将其他国家的同行打得节节败退，在很大程度上就是靠便宜。

如果真能把光刻机的价格，打到EUV的1/10甚至更低，那芯片代工的价格，是不是也要降？

到时候，所有拿不到莲蓬光刻机的芯片代工厂，都会被能拿到的同行，如中芯国际和莲芯半导体挤兑倒闭。

“可是……”

臧教授仍有些犹疑，“论精度，纳米压印是不如电子束的。”

“纳米压印的精度不是可以支持1nm吗？”

“纳米压印支持1nm制程，只是在理论上可以做到，可电子束，在理论上能达到原子级，也就是0.1nm。”

说到这里，臧教授对江晟正色道：

“虽然就目前来说，1nm已经非常非常先进，可能七八年之后，都不一定能做到量产。

但它的潜力，没有其他路线大，一旦走到底，就可能面临无路可走的窘境，只能重新换方向。

到时候，我们又将面临落后的局面！”

他的意思很明白，拿玩游戏的话说，就是纳米压印再好，也只是前期极品，而电子束，是可成长性装备，能一直用到后期。

闻言，江晟笑了笑：“1nm制程，只要成本够低，我想即便阿斯麦或其他厂商，研发出低于1nm的光刻机，也有足够竞争力吧？

而且，只要我们研发速度足够快，成本和售价足够低，友商能不能撑到，推出低于1nm的光刻机还不好说。

更重要的是，我选纳米压印，不等于就放弃其他路线。

如果，在友商研发出低于1nm的光刻机时，我们在原子层光刻技术也取得突破呢？”

臧教授一懵：“你想同时走两条路线？”

“不错。”

江晟点点头，“既然原子层光刻，是光刻技术的终极形态，那我们没道理放弃。

高精度我要，低成本我也要。如果能把这两条路同时走通，那不管低端，还是高端市场，都会被我们吃掉。

阿斯麦，还有富士通等友商，就算想转低端都不行！”

“……”

臧教授看着江晟，过了许久才有些无奈道：

“江总，你的想法很好，但有没有想过，我们的研发能力，能支撑两条路线同时进行吗？

先不说分散力量，会不会影响研发进度，因为三心两意，导致竹篮打水一场空。

就说原子层光刻，想要完成研发，可能三十年，也可能五十年，甚至更久。

这会与纳米压印技术，形成一个青黄不接的空当。在这个空当内，我们怎么办？”

听到这话，江晟激将道：“你不是说，研制光刻机不难吗？”

“我说的是，研制DUV不难，不是说研制原子层光刻不难。”臧教授辩解说。

江晟决定暂时搁置这一话题，转而问道：

“那你想选哪个？”

“我……”

臧教授一张嘴，刚要回答，却心中一动，道：

“如果我选择EBL电子束光刻路线，你会怎么做？”

“那就再找一个团队，研究原子层光刻。”

江晟回答得十分坦然。

就像之前说的那样，既然原子层光刻，是光刻技术的终极形态，那他就没道理不做布局。

对别人说，动辄三十年、五十年，甚至更长时间的研发周期，令人望而生畏。

但对手握研发卡和灵感卡的他来说，原子层光刻并不是那么的遥不可及。

即便道具卡用多了，效果会递减，甚至无效，整个研发周期也会大大缩减。

最长十年，最短可能只要两三年，就能把它研制出来。

“唉！”

臧教授见他打定主意，要同时走原子层光刻路线，忍不住叹了口气，道：

这章没有结束，请点击下一页继续阅读！